Insbesondere für die Halbleiterindustrie weisen Everflon™-Fluoropolymere mehrere Eigenschaften auf, die ihren Einsatz in dieser Branche unverzichtbar machen. Sie zeichnen sich durch eine hervorragende Verträglichkeit mit allen in den Prozessen verwendeten Chemikalien aus. Darüber hinaus besitzen sie eine hohe Öl- und Wasserabweisung, wenn sie in Filtern zur Aufrechterhaltung einer extrem sauberen Umgebung sowie in Halbleiterverarbeitungseinrichtungen (Naßverarbeitungseinrichtungen, Fluidtransportsysteme und Waferhandhabungswerkzeuge) eingesetzt werden.
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Die Halbleiterindustrie stützt sich auf Präzisionsprozesse und erfordert eine ultrasaubere Umgebung für die Fertigung, da sie eine äußerst geringe Toleranz gegenüber Kontaminationen aufweist. Daher ist die Verwendung von Materialien, die dazu beitragen, Kontaminationen zu minimieren, von essenzieller Bedeutung. Infolgedessen setzt die Halbleiterindustrie für Naßverarbeitungseinrichtungen, Fluidtransportsysteme und Waferhandhabungswerkzeuge auf Everflon™-Fluoropolymere. Diese werden in den Fluidhandhabungsbereichen des Prozesses eingesetzt, wobei ultrasaubere Typen mit sehr geringem extrahierbarem Gehalt Verwendung finden – sie können die aggressiven Chemikalien standhalten, die im Ätzprozess Anwendung finden. Die Reduzierung von Kontaminationen durch Partikel, metallische Verunreinigungen und Ausgasungen, die durch Dichtungsverschlechterung verursacht werden, gehören zu den wichtigsten Zielen von Halbleiterherstellern. |
Hohe Reinheit von Everflon™ PFA ist ebenfalls erforderlich, um die in der Produktion verwendeten Fluide ultrasauber zu halten. Es ermöglicht größere Wafer und somit stetig verbesserte sowie erschwingliche Mikrochips und LEDs – und zwar dank höherer Produktionserträge in der Halbleiterfertigung. |
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Everflon™-Fluoropolymerharze und -Beschichtungen gewährleisten, dass Kommunikationsgeräte (z. B. Mobilfunkmasten, Kabel) die Geschwindigkeiten, Kapazitäten und niedrige Latenz erreichen, die 5G erfordert. Everflon™-Fluoropolymere finden zudem in Dichtungen von Ätzgeräten sowie als Schutzfolie auf Photomasken bei der Lithographieverarbeitung Anwendung. |
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